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99.95% शुद्ध टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य धातु डब्ल्यू टंगस्टन लक्ष्य विरोधी जंग

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99.95% शुद्ध टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य धातु डब्ल्यू टंगस्टन लक्ष्य विरोधी जंग

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बड़ी छवि :  99.95% शुद्ध टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य धातु डब्ल्यू टंगस्टन लक्ष्य विरोधी जंग

उत्पाद विवरण:
उत्पत्ति के प्लेस: चीन
ब्रांड नाम: ZHENAN
प्रमाणन: ISO9001:2015
मॉडल संख्या: शुद्ध टंगस्टन धातु स्पटरिंग लक्ष्य
भुगतान & नौवहन नियमों:
न्यूनतम आदेश मात्रा: बातचीत योग्य
मूल्य: negotiable
पैकेजिंग विवरण: 1MT बड़ा बैग या ग्राहक के अनुरोध के अनुसार
प्रसव के समय: भुगतान प्राप्त करने के 7-10 कार्य दिवस बाद
भुगतान शर्तें: एल/सी, टी/टी, वेस्टर्न यूनियन
आपूर्ति की क्षमता: 2000MT/प्रति माह

99.95% शुद्ध टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य धातु डब्ल्यू टंगस्टन लक्ष्य विरोधी जंग

वर्णन
उत्पाद संरचना: शुद्ध टंगस्टन धातु स्पटरिंग लक्ष्य आकार: गोल
ग्रेड: टंगस्टन मिश्र धातु सतह: पॉलिश सतह
ब्रांड नाम: ZHENAN उपलब्ध शुद्धता ((%): 99.5%,99.8%,99.9%,99.95%,99.99%
प्रमुखता देना:

वोल्फ्रेम स्पटरिंग लक्ष्य 99.95% शुद्ध

,

जंग रोधी वोल्फ्रेम स्पटरिंग लक्ष्य

,

99.95% शुद्ध वोल्फ्रेम स्पटरिंग

शुद्ध टंगस्टन धातु स्पटरिंग लक्ष्य

विवरण:

वोल्फ्रेम स्पटरिंग लक्ष्य कच्चे माल के रूप में शुद्ध वोल्फ्रेम पाउडर से बना उत्पाद है।यह चांदी की तरह सफेद दिखता है और इसके उत्कृष्ट भौतिक और रासायनिक गुणों के कारण कई क्षेत्रों में लोकप्रिय है.

स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग के लिए किया जाता है, जो एक नए प्रकार की भौतिक वाष्प कोटिंग (पीवीडी) विधि है।

एक आर्थोगोनल चुंबकीय क्षेत्र और एक विद्युत क्षेत्र के बीच जोड़ा जाता है छिद्रित लक्ष्यऔर एनोड, और आवश्यक निष्क्रिय गैस (आमतौर पर Ar गैस) उच्च वैक्यूम कक्ष में भरा जाता है। विद्युत क्षेत्र की कार्रवाई के तहत, Ar गैस सकारात्मक आयनों और इलेक्ट्रॉनों में आयनित होती है,लक्ष्य के लिए एक निश्चित नकारात्मक उच्च वोल्टेज जोड़ा जाता हैलक्ष्य से उत्सर्जित इलेक्ट्रॉनों को चुंबकीय क्षेत्र से प्रभावित किया जाता है और कार्यशील गैस की आयनिकरण संभावना बढ़ जाती है, कैथोड के पास एक उच्च घनत्व वाला प्लाज्मा बनता है।आयनों को लोरेन्ज़ बल द्वारा चलाया जाता हैयह लक्ष्य की सतह पर तेजी लाता है और बहुत उच्च गति से लक्ष्य की सतह पर बमबारी करता है,ताकि लक्ष्य पर स्पटर किए गए परमाणु गति रूपांतरण के सिद्धांत का पालन करें और एक फिल्म जमा करने के लिए उच्च गतिज ऊर्जा के साथ लक्ष्य सतह से दूर उड़ान भरें.

विनिर्देश:

उत्पाद का नाम वोल्फ्रेम ((W) स्पटरिंग लक्ष्य
उपलब्ध शुद्धता ((%) 99.5%,99.8%,99.9%,99.95%,99.99%
आकारः प्लेट, गोल, घुमावदार, पाइप/ट्यूब
पिघलने का बिंदु ((°C) 3407 ((°C)
घनत्व ((g/cm3) 19.35g/cm3
पिघलने की गुप्त गर्मी 40.13±6.67kJ/मोल
सतह की स्थिति पोलिश या क्षारीय धोने

99.95% शुद्ध टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य धातु डब्ल्यू टंगस्टन लक्ष्य विरोधी जंग 0

आवेदनः

वोल्फ़्रेम लक्ष्यों के निम्नलिखित फायदे हैंः

1पाउडर धातु विज्ञान के व्यापक अनुप्रयोग से वोल्फ्रेम लक्ष्य की लागत अन्य लक्ष्य सामग्री, जैसे टाइटेनियम की लागत से कम है।

2. संरचना और संरचना समान हैं, जो वोल्फ्रेम लक्ष्य के झुकने बल में सुधार करती है;

3कणों का आकार ठीक है, दाने समान और समान हैं, एकाग्रता अधिक है, और कोटिंग उत्पाद की गुणवत्ता अधिक है।

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अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न:

प्रश्न: क्या आप एक कारखाना या व्यापारिक कंपनी हैं?
एकः हम कारखाने और व्यापारिक कंपनी हैं।

प्रश्न: क्या मैं उत्पाद पर अपना लोगो लगा सकता हूँ?
एकः हाँ, आप हमें अपने डिजाइन भेज सकते हैं और हम अपने लोगो बना सकते हैं.

प्रश्नः क्या आप शिपमेंट की व्यवस्था कर सकते हैं?
एकः निश्चित रूप से, हमारे पास स्थायी फ्रेट फारवर्डर है जो अधिकांश जहाज कंपनी से सबसे अच्छी कीमत प्राप्त कर सकता है और पेशेवर सेवा प्रदान कर सकता है।

प्रश्नः क्या हम आपके कारखाने का दौरा कर सकते हैं?
A: आपका हार्दिक स्वागत है एक बार जब हमारे पास आपका शेड्यूल हो जाएगा तो हम आपको उठा लेंगे।

सम्पर्क करने का विवरण
Zhenan Metallurgy Co., Ltd

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