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उच्च शुद्धता टाइटेनियम वोल्फ़्रेम स्पटरिंग लक्ष्य 99.99%

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उच्च शुद्धता टाइटेनियम वोल्फ़्रेम स्पटरिंग लक्ष्य 99.99%

उच्च शुद्धता टाइटेनियम वोल्फ़्रेम स्पटरिंग लक्ष्य 99.99%
High Purity Titanium Tungsten Sputtering Target 99.99%
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बड़ी छवि :  उच्च शुद्धता टाइटेनियम वोल्फ़्रेम स्पटरिंग लक्ष्य 99.99%

उत्पाद विवरण:
उत्पत्ति के प्लेस: चीन
ब्रांड नाम: ZHENAN
प्रमाणन: ISO9001:2015
मॉडल संख्या: वोल्फ्रेम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
भुगतान & नौवहन नियमों:
न्यूनतम आदेश मात्रा: बातचीत योग्य
मूल्य: negotiable
पैकेजिंग विवरण: 1MT बड़ा बैग या ग्राहक के अनुरोध के अनुसार
प्रसव के समय: भुगतान प्राप्त करने के 7-10 कार्य दिवस बाद
भुगतान शर्तें: एल/सी, टी/टी, वेस्टर्न यूनियन
आपूर्ति की क्षमता: 2000MT/प्रति माह

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वर्णन
उत्पाद संरचना: टंगस्टन टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य आकार: गोल
मॉडल संख्या: WTi10 पवित्रता: 99.99%
ब्रांड नाम: ZHENAN सामग्री: वोल्फ्रेम 90%, टाइटेनियम 10%
प्रमुखता देना:

उच्च शुद्धता वाले वोल्फ्रेम स्पटरिंग लक्ष्य

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99.99% वोल्फ्रेम स्पटरिंग लक्ष्य

वोल्फ्रेम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

विवरण:

वोल्फ्रेम स्पटरिंग लक्ष्य कच्चे माल के रूप में शुद्ध वोल्फ्रेम पाउडर से बना उत्पाद है।यह चांदी की तरह सफेद दिखता है और इसके उत्कृष्ट भौतिक और रासायनिक गुणों के कारण कई क्षेत्रों में लोकप्रिय है.

विनिर्देश:

सामग्री का प्रकार टंगस्टन
प्रतीक W
परमाणु भार 183.84
परमाणु संख्या 74
रंग/रूप भूरे रंग का सफेद, चमकदार, धातु
ऊष्मा चालकता 174 W/m.K.
पिघलने का बिंदु (°C) 3,410
थर्मल विस्तार गुणांक 4.5 x 10-6/K
सैद्धांतिक घनत्व (g/cc) 19.25
Z अनुपात 0.163
स्पुटर डीसी
अधिकतम शक्ति घनत्व
(वाट/वर्ग इंच)
100*
बांड का प्रकार इंडियम, इलास्टोमर
टिप्पणियाँ वाष्पशील ऑक्साइड बनता है।

उच्च शुद्धता टाइटेनियम वोल्फ़्रेम स्पटरिंग लक्ष्य 99.99% 0

आवेदनः

इनका उपयोग तब किया जाता है जब बड़े स्क्रीन प्रारूपों, अत्यंत उच्च छवि स्पष्टता और अनुकूलित कंट्रास्ट की आवश्यकता होती है।उदाहरण के लिए आवृत्ति फिल्टर (सतह ध्वनिक तरंग फिल्टर (SAW)) में कोटिंग बनाने के लिएवोल्फ्रेम नाइट्राइड से बने फैलाव बाधाओं, माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक घटकों में कंडक्टर ट्रैक,ओएलईडी डिस्प्ले और इलेक्ट्रोकेमिकल अनुप्रयोगों के लिए वोल्फ्रेम ऑक्साइड से निर्मित पारदर्शी परतें.

उच्च शुद्धता टाइटेनियम वोल्फ़्रेम स्पटरिंग लक्ष्य 99.99% 1

झेनान लक्ष्य सबसे सख्त शुद्धता आवश्यकताओं को पूरा करते हैं।इसका मुख्य लाभ यह है कि परिणामी कोटिंग में उत्कृष्ट विद्युत चालकता है और पीवीडी प्रक्रिया के दौरान कणों के गठन को कम करता है. स्पटरिंग लक्ष्य में धातु और गैर धातु अशुद्धियों स्पटरिंग कार्यात्मक परत में स्थानांतरित कर रहे हैं,इस प्रकार इसकी कार्यक्षमता को प्रभावित करना या पीवीडी प्रक्रिया में कणों के गठन का कारण बनना (आर्क प्रभाव).

ZhenAn गारंटी देता है कि हमारे वोल्फ्रेम लक्ष्य कम से कम 99.99% शुद्ध हैं। हमारे वोल्फ्रेम लक्ष्यों की विशिष्ट शुद्धता 99.99% से भी अधिक है।इस प्रकार हम यह गारंटी दे सकते हैं कि हमारे द्वारा उत्पादित कोटिंग्स सख्त आवश्यकताओं को पूरा करती हैं, विशेष रूप से सूक्ष्म इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में उपयोग के लिए।

अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न:

प्रश्नः क्या मैं आदेश देने से पहले नमूने प्राप्त कर सकता हूँ?
एकः हाँ, निश्चित रूप से. आम तौर पर हमारे नमूने मुक्त हैं, हम अपने नमूने या तकनीकी चित्र द्वारा उत्पादन कर सकते हैं.

प्रश्न: गुणवत्ता की गारंटी कैसे दी जाए?
A: बड़े पैमाने पर उत्पादन से पहले हमेशा एक पूर्व-उत्पादन नमूना;निर्यात से पहले हमेशा अंतिम निरीक्षण।

प्रश्न: हमें क्यों चुना?
एकः हम अनुभवी कर्मचारियों है;प्रमाण पत्र के प्रकार प्रदान;सामग्री पैकिंग कण आकार ग्राहक की मांग पर आधारित हो सकता है;गुणवत्ता की गारंटी दी जा सकती है. हम अपने उपयोगकर्ताओं के लिए सुरक्षित उत्पाद प्रदान करते हैं.

सम्पर्क करने का विवरण
Zhenan Metallurgy Co., Ltd

व्यक्ति से संपर्क करें: Mr. xie

दूरभाष: + 8615896822096

फैक्स: 86-372-5055135

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